Dispositif pour la production de films organiques de différentes compositions par plasma induit par décharge micro-onde

Le système est associé à une ligne de mélange et à un système de pompage. Cela permet de contrôler la composition du mélange gazeux initial envoyé dans le réacteur et maintenu à basse pression. Le plasma qui se forme dans le réacteur est induit et maintenu par une décharge micro-onde couplée à une cavité Evenson. Le dispositif est tel qu’une partie de la matière organique solide produite se dépose sous forme de film mince directement sur un support ad ’hoc, facilitant les caractérisations ultérieures, par infrarouge notamment.

Contact : Donia Baklouti